Основи мікро- та нанотехнологій

Спеціальність: Телекомунікації та радіотехніка
Код дисципліни: 6.172.05.E.121
Кількість кредитів: 5.00
Кафедра: Електронні засоби інформаційно-комп'ютерних технологій
Лектор: Професор Дмитро Заячук
Семестр: 8 семестр
Форма навчання: денна
Результати навчання: 1. Знання і розуміння наукових принци¬пів і законів, на яких базуються сучасні мікро- та нанотехнології виготовлення структур, приладів, пристроїв і систем телекомунікацій і радіотехніки. 2. Вміння використовувати на практиці набуті знання з технології формування двовимірних, одновимірних, нульвимірних напівпровідникових структур для задоволення потреб сучасної радіоелектроніки та інформаційних систем. 3. Вміння користуватися науковою літературою, яка присвячена проблемам навчальної дисципліни. 4. Вміння самостійно аналізувати результати новітніх розробок і досягнень в області технології виготовлення наноструктур. 5. Вміння самостійно робити висновки.
Необхідні обов'язкові попередні та супутні навчальні дисципліни: Попередні навчальні дисципліни Фізика, Вища математика Супутні і наступні навчальні дисципліни Конструкторське проектування радіоелектронних апаратів Основи матеріалознавства
Короткий зміст навчальної програми: Викладаються основи сучасних технологій вирощування приладних структур напівпровідникової мікро- і наноелектроніки: вакуумного осадження тонких плівок; епітаксії тонких плівок з газової фази; молекулярно-променевої епітаксії; газофазної епітаксії з металоорганічних сполук і гідридів; рідиннофазної епітаксії; технологічних методів формування масивів квантових ниток і квантових точок. Аналізуються новітні розробки і досягнення в області мікро- і нанотехнологій.
Методи та критерії оцінювання: Виступи на практичних заняттях, тестові контрольні роботи у ВНС, екзаменаційний контроль.
Рекомендована література: 1. Заячук Д.М., Нанотехнології і наноструктури, Львів, 2009. 2. Технология тонких пленок. Под ред. Л. Майссела и Р. Глэнга. Т. 1 и 2., М.: Советское радио, 1977. 3. Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры. Под ред. Л. Ченга и К. Плога, М.: Мир, 1989. 4. Физико-химические основы жидкофазной эпитаксии. Уфимцев В.Б., Акчурин Р.Х. М.: Металлургия, 1983.